পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর ৬ ইঞ্চি পরিবাহী একক স্ফটিক SiC ব্যাস ১৫০ মিমি P টাইপ N টাইপ
প্রযুক্তিগত পরামিতি
আকার: | 6 ইঞ্চি |
ব্যাস: | ১৫০ মিমি |
বেধ: | ৪০০-৫০০ মাইক্রোমিটার |
মনোক্রিস্টালাইন SiC ফিল্ম প্যারামিটার | |
পলিটাইপ: | 4H-SiC বা 6H-SiC |
ডোপিং ঘনত্ব: | ১×১০¹⁴ - ১×১০¹⁸ সেমি⁻³ |
বেধ: | ৫-২০ মাইক্রোমিটার |
শীট প্রতিরোধ: | ১০-১০০০ Ω/বর্গমিটার |
ইলেকট্রন গতিশীলতা: | ৮০০-১২০০ সেমি²/বনাম |
গর্তের গতিশীলতা: | ১০০-৩০০ সেমি²/বনাম |
পলিক্রিস্টালাইন SiC বাফার স্তর পরামিতি | |
বেধ: | ৫০-৩০০ মাইক্রোমিটার |
তাপীয় পরিবাহিতা: | ১৫০-৩০০ ওয়াট/মিটার·কে |
মনোক্রিস্টালাইন SiC সাবস্ট্রেট প্যারামিটার | |
পলিটাইপ: | 4H-SiC বা 6H-SiC |
ডোপিং ঘনত্ব: | ১×১০¹⁴ - ১×১০¹⁸ সেমি⁻³ |
বেধ: | ৩০০-৫০০ মাইক্রোমিটার |
শস্যের আকার: | > ১ মিমি |
পৃষ্ঠের রুক্ষতা: | < ০.৩ মিমি আরএমএস |
যান্ত্রিক ও বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য | |
কঠোরতা: | ৯-১০ মোহস |
সংকোচনশীল শক্তি: | ৩-৪ জিপিএ |
প্রসার্য শক্তি: | ০.৩-০.৫ জিপিএ |
ব্রেকডাউন ফিল্ড স্ট্রেংথ: | > ২ এমভি/সেমি |
মোট ডোজ সহনশীলতা: | > ১০ মৃদ |
একক ইভেন্ট প্রভাব প্রতিরোধ: | > ১০০ মেগাভেট·সেমি²/মিগ্রা |
তাপীয় পরিবাহিতা: | ১৫০-৩৮০ ওয়াট/মিটার·কে |
অপারেটিং তাপমাত্রা পরিসীমা: | -৫৫ থেকে ৬০০ ডিগ্রি সেলসিয়াস |
মূল বৈশিষ্ট্য
পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC উপাদানের গঠন এবং কর্মক্ষমতার একটি অনন্য ভারসাম্য প্রদান করে, যা এটিকে চাহিদাপূর্ণ শিল্প পরিবেশের জন্য উপযুক্ত করে তোলে:
১. খরচ-কার্যকারিতা: পলিক্রিস্টালাইন SiC বেস পূর্ণ-মনোক্রিস্টালাইন SiC এর তুলনায় খরচ উল্লেখযোগ্যভাবে কমিয়ে দেয়, অন্যদিকে মনোক্রিস্টালাইন SiC সক্রিয় স্তর ডিভাইস-গ্রেড কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে, যা খরচ-সংবেদনশীল অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আদর্শ।
২. ব্যতিক্রমী বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য: মনোক্রিস্টালাইন SiC স্তরটি উচ্চ বাহক গতিশীলতা (>৫০০ সেমি²/V·s) এবং কম ত্রুটি ঘনত্ব প্রদর্শন করে, যা উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি এবং উচ্চ-শক্তি ডিভাইস পরিচালনাকে সমর্থন করে।
৩. উচ্চ-তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা: SiC-এর সহজাত উচ্চ-তাপমাত্রা প্রতিরোধ ক্ষমতা (>৬০০°C) নিশ্চিত করে যে কম্পোজিট সাবস্ট্রেট চরম পরিস্থিতিতে স্থিতিশীল থাকে, যা এটিকে বৈদ্যুতিক যানবাহন এবং শিল্প মোটর অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত করে তোলে।
৪.৬-ইঞ্চি স্ট্যান্ডার্ডাইজড ওয়েফার সাইজ: ঐতিহ্যবাহী ৪-ইঞ্চি SiC সাবস্ট্রেটের তুলনায়, ৬-ইঞ্চি ফর্ম্যাটটি চিপের উৎপাদন ৩০% এরও বেশি বৃদ্ধি করে, যা প্রতি ইউনিট ডিভাইসের খরচ কমিয়ে দেয়।
৫.পরিবাহী নকশা: প্রি-ডোপড এন-টাইপ বা পি-টাইপ স্তরগুলি ডিভাইস তৈরিতে আয়ন ইমপ্লান্টেশনের ধাপগুলিকে কমিয়ে দেয়, উৎপাদন দক্ষতা এবং ফলন উন্নত করে।
৬.উচ্চতর তাপীয় ব্যবস্থাপনা: পলিক্রিস্টালাইন SiC বেসের তাপ পরিবাহিতা (~১২০ ওয়াট/মি·কে) মনোক্রিস্টালাইন SiC এর সমান, যা উচ্চ-শক্তিসম্পন্ন ডিভাইসগুলিতে তাপ অপচয় রোধের চ্যালেঞ্জগুলিকে কার্যকরভাবে মোকাবেলা করে।
এই বৈশিষ্ট্যগুলি পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC কে পুনর্নবীকরণযোগ্য শক্তি, রেল পরিবহন এবং মহাকাশের মতো শিল্পের জন্য একটি প্রতিযোগিতামূলক সমাধান হিসাবে স্থাপন করে।
প্রাথমিক অ্যাপ্লিকেশন
পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC সফলভাবে বেশ কয়েকটি উচ্চ-চাহিদাযুক্ত ক্ষেত্রে স্থাপন করা হয়েছে:
১. বৈদ্যুতিক যানবাহনের পাওয়ারট্রেন: উচ্চ-ভোল্টেজ SiC MOSFET এবং ডায়োডে ইনভার্টার দক্ষতা বৃদ্ধি এবং ব্যাটারির পরিসর বাড়ানোর জন্য ব্যবহৃত হয় (যেমন, টেসলা, BYD মডেল)।
২.শিল্প মোটর ড্রাইভ: উচ্চ-তাপমাত্রা, উচ্চ-স্যুইচিং-ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার মডিউল সক্ষম করে, ভারী যন্ত্রপাতি এবং বায়ু টারবাইনে শক্তি খরচ হ্রাস করে।
৩. ফটোভোলটাইক ইনভার্টার: SiC ডিভাইসগুলি সৌর রূপান্তর দক্ষতা (>৯৯%) উন্নত করে, যেখানে কম্পোজিট সাবস্ট্রেট সিস্টেমের খরচ আরও কমিয়ে দেয়।
৪.রেল পরিবহন: উচ্চ-গতির রেল এবং পাতাল রেল সিস্টেমের জন্য ট্র্যাকশন কনভার্টারে প্রয়োগ করা হয়, যা উচ্চ-ভোল্টেজ প্রতিরোধ (>১৭০০V) এবং কম্প্যাক্ট ফর্ম ফ্যাক্টর প্রদান করে।
৫.মহাকাশ: স্যাটেলাইট পাওয়ার সিস্টেম এবং বিমানের ইঞ্জিন নিয়ন্ত্রণ সার্কিটের জন্য আদর্শ, যা চরম তাপমাত্রা এবং বিকিরণ সহ্য করতে সক্ষম।
ব্যবহারিকভাবে তৈরিতে, পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC স্ট্যান্ডার্ড SiC ডিভাইস প্রক্রিয়াগুলির সাথে সম্পূর্ণ সামঞ্জস্যপূর্ণ (যেমন, লিথোগ্রাফি, এচিং), কোনও অতিরিক্ত মূলধন বিনিয়োগের প্রয়োজন হয় না।
XKH পরিষেবা
XKH পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটে 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC-এর জন্য ব্যাপক সহায়তা প্রদান করে, যা ব্যাপক উৎপাদনের জন্য গবেষণা ও উন্নয়নকে অন্তর্ভুক্ত করে:
১. কাস্টমাইজেশন: বিভিন্ন ডিভাইসের প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য সামঞ্জস্যযোগ্য মনোক্রিস্টালাইন স্তরের পুরুত্ব (৫–১০০ μm), ডোপিং ঘনত্ব (১e১৫–১e১৯ cm⁻³), এবং স্ফটিক ওরিয়েন্টেশন (৪H/৬H-SiC)।
২. ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ: প্লাগ-এন্ড-প্লে ইন্টিগ্রেশনের জন্য ব্যাকসাইড থিনিং এবং মেটালাইজেশন পরিষেবা সহ ৬-ইঞ্চি সাবস্ট্রেটের বাল্ক সরবরাহ।
৩.প্রযুক্তিগত বৈধতা: উপাদানের যোগ্যতা ত্বরান্বিত করার জন্য XRD স্ফটিকতা বিশ্লেষণ, হল প্রভাব পরীক্ষা এবং তাপ প্রতিরোধের পরিমাপ অন্তর্ভুক্ত।
৪. দ্রুত প্রোটোটাইপিং: গবেষণা প্রতিষ্ঠানগুলির উন্নয়ন চক্রকে ত্বরান্বিত করার জন্য ২ থেকে ৪ ইঞ্চি নমুনা (একই প্রক্রিয়া)।
৫.ব্যর্থতা বিশ্লেষণ এবং অপ্টিমাইজেশন: প্রক্রিয়াকরণের চ্যালেঞ্জগুলির জন্য উপাদান-স্তরের সমাধান (যেমন, এপিট্যাক্সিয়াল স্তর ত্রুটি)।
আমাদের লক্ষ্য হল পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC কে SiC পাওয়ার ইলেকট্রনিক্সের জন্য পছন্দের খরচ-কার্যক্ষমতা সমাধান হিসেবে প্রতিষ্ঠা করা, যা প্রোটোটাইপিং থেকে ভলিউম উৎপাদন পর্যন্ত এন্ড-টু-এন্ড সহায়তা প্রদান করে।
উপসংহার
পলিক্রিস্টালাইন SiC কম্পোজিট সাবস্ট্রেটের উপর 6-ইঞ্চি পরিবাহী মনোক্রিস্টালাইন SiC তার উদ্ভাবনী মনো/পলিক্রিস্টালাইন হাইব্রিড কাঠামোর মাধ্যমে কর্মক্ষমতা এবং খরচের মধ্যে একটি যুগান্তকারী ভারসাম্য অর্জন করে। বৈদ্যুতিক যানবাহনের প্রসার এবং ইন্ডাস্ট্রি 4.0 অগ্রগতির সাথে সাথে, এই সাবস্ট্রেটটি পরবর্তী প্রজন্মের পাওয়ার ইলেকট্রনিক্সের জন্য একটি নির্ভরযোগ্য উপাদান ভিত্তি প্রদান করে। XKH SiC প্রযুক্তির সম্ভাবনা আরও অন্বেষণের জন্য সহযোগিতাকে স্বাগত জানায়।

