ICP-এর জন্য ৪ ইঞ্চি ৬ ইঞ্চি ওয়েফার হোল্ডারের জন্য SiC সিরামিক প্লেট/ট্রে

১. সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন

SiC সিরামিক প্লেটগুলি সাধারণত CVD (রাসায়নিক বাষ্প জমা), PVD (ভৌত বাষ্প জমা), এবং এচিং সিস্টেমের মতো সেমিকন্ডাক্টর তৈরির সরঞ্জামগুলিতে ওয়েফার ক্যারিয়ার, সাসসেপ্টর এবং পেডেস্টাল প্লেট হিসাবে ব্যবহৃত হয়। তাদের চমৎকার তাপ পরিবাহিতা এবং কম তাপীয় প্রসারণ তাদের অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন বজায় রাখতে সাহায্য করে, যা উচ্চ-নির্ভুলতা ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। ক্ষয়কারী গ্যাস এবং প্লাজমার প্রতি SiC এর প্রতিরোধ কঠোর পরিবেশে স্থায়িত্ব নিশ্চিত করে, কণা দূষণ এবং সরঞ্জাম রক্ষণাবেক্ষণ কমাতে সাহায্য করে।

২. এলইডি ইন্ডাস্ট্রি - আইসিপি এচিং

LED উৎপাদন খাতে, SiC প্লেটগুলি ICP (Inductively Coupled Plasma) এচিং সিস্টেমের মূল উপাদান। ওয়েফার হোল্ডার হিসেবে কাজ করে, তারা প্লাজমা প্রক্রিয়াকরণের সময় নীলকান্তমণি বা GaN ওয়েফারগুলিকে সমর্থন করার জন্য একটি স্থিতিশীল এবং তাপীয়ভাবে শক্তিশালী প্ল্যাটফর্ম প্রদান করে। তাদের চমৎকার প্লাজমা প্রতিরোধ ক্ষমতা, পৃষ্ঠের সমতলতা এবং মাত্রিক স্থিতিশীলতা উচ্চ এচিং নির্ভুলতা এবং অভিন্নতা নিশ্চিত করতে সহায়তা করে, যার ফলে LED চিপগুলিতে ফলন এবং ডিভাইসের কর্মক্ষমতা বৃদ্ধি পায়।

৩. ফটোভোলটাইক (পিভি) এবং সৌরশক্তি

SiC সিরামিক প্লেটগুলি সৌর কোষ উৎপাদনেও ব্যবহৃত হয়, বিশেষ করে উচ্চ-তাপমাত্রার সিন্টারিং এবং অ্যানিলিং ধাপের সময়। উচ্চ তাপমাত্রায় তাদের জড়তা এবং ওয়ার্পিং প্রতিরোধ করার ক্ষমতা সিলিকন ওয়েফারগুলির ধারাবাহিক প্রক্রিয়াকরণ নিশ্চিত করে। উপরন্তু, ফটোভোলটাইক কোষগুলির দক্ষতা বজায় রাখার জন্য তাদের কম দূষণের ঝুঁকি অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।