SiC Ingot 4H টাইপ ব্যাস 4 ইঞ্চি 6 ইঞ্চি পুরুত্ব 5-10 মিমি গবেষণা / ডামি গ্রেড
বৈশিষ্ট্য
১. স্ফটিক গঠন এবং ওরিয়েন্টেশন
পলিটাইপ: 4H (ষড়ভুজ গঠন)
জালি ধ্রুবক:
a = 3.073 Å
গ = ১০.০৫৩ Å
ওরিয়েন্টেশন: সাধারণত [0001] (C-plane), তবে অন্যান্য ওরিয়েন্টেশন যেমন [11\overline{2}0] (A-plane) অনুরোধের ভিত্তিতে উপলব্ধ।
2. ভৌত মাত্রা
ব্যাস:
স্ট্যান্ডার্ড বিকল্প: ৪ ইঞ্চি (১০০ মিমি) এবং ৬ ইঞ্চি (১৫০ মিমি)
বেধ:
৫-১০ মিমি পরিসরে পাওয়া যায়, অ্যাপ্লিকেশনের প্রয়োজনীয়তার উপর নির্ভর করে কাস্টমাইজযোগ্য।
3. বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য
ডোপিং টাইপ: অভ্যন্তরীণ (আধা-অন্তরক), এন-টাইপ (নাইট্রোজেন দিয়ে ডোপ করা), অথবা পি-টাইপ (অ্যালুমিনিয়াম বা বোরন দিয়ে ডোপ করা) পাওয়া যায়।
৪. তাপীয় এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য
তাপীয় পরিবাহিতা: ঘরের তাপমাত্রায় ৩.৫-৪.৯ ওয়াট/সেমি·কে, যা চমৎকার তাপ অপচয়কে সক্ষম করে।
কঠোরতা: Mohs স্কেল 9, যা SiC কে হীরার পরেই কঠোরতার দিক থেকে দ্বিতীয় স্থানে রেখেছে।
প্যারামিটার | বিস্তারিত | ইউনিট |
বৃদ্ধি পদ্ধতি | পিভিটি (ভৌত বাষ্প পরিবহন) | |
ব্যাস | ৫০.৮ ± ০.৫ / ৭৬.২ ± ০.৫ / ১০০.০ ± ০.৫ / ১৫০ ± ০.৫ | mm |
পলিটাইপ | ৪এইচ / ৬এইচ (৫০.৮ মিমি), ৪এইচ (৭৬.২ মিমি, ১০০.০ মিমি, ১৫০ মিমি) | |
পৃষ্ঠের অবস্থান | ০.০˚ / ৪.০˚ / ৮.০˚ ± ০.৫˚ (৫০.৮ মিমি), ৪.০˚ ± ০.৫˚ (অন্যান্য) | ডিগ্রি |
আদর্শ | এন-টাইপ | |
বেধ | ৫-১০ / ১০-১৫ / >১৫ | mm |
প্রাথমিক ফ্ল্যাট ওরিয়েন্টেশন | (১০-১০) ± ৫.০˚ | ডিগ্রি |
প্রাথমিক ফ্ল্যাট দৈর্ঘ্য | ১৫.৯ ± ২.০ (৫০.৮ মিমি), ২২.০ ± ৩.৫ (৭৬.২ মিমি), ৩২.৫ ± ২.০ (১০০.০ মিমি), ৪৭.৫ ± ২.৫ (১৫০ মিমি) | mm |
সেকেন্ডারি ফ্ল্যাট ওরিয়েন্টেশন | ওরিয়েন্টেশন থেকে 90˚ CCW ± 5.0˚ | ডিগ্রি |
সেকেন্ডারি ফ্ল্যাট দৈর্ঘ্য | ৮.০ ± ২.০ (৫০.৮ মিমি), ১১.২ ± ২.০ (৭৬.২ মিমি), ১৮.০ ± ২.০ (১০০.০ মিমি), কোনটিই নয় (১৫০ মিমি) | mm |
শ্রেণী | গবেষণা / ডামি |
অ্যাপ্লিকেশন
১. গবেষণা ও উন্নয়ন
গবেষণা-গ্রেড 4H-SiC ইনগটটি SiC-ভিত্তিক ডিভাইস বিকাশের উপর দৃষ্টি নিবদ্ধ করে এমন একাডেমিক এবং শিল্প ল্যাবগুলির জন্য আদর্শ। এর উচ্চতর স্ফটিক মানের SiC বৈশিষ্ট্যগুলির উপর সুনির্দিষ্ট পরীক্ষা-নিরীক্ষা সম্ভব করে, যেমন:
ক্যারিয়ার গতিশীলতা অধ্যয়ন।
ত্রুটি চিহ্নিতকরণ এবং হ্রাসকরণ কৌশল।
এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার অপ্টিমাইজেশন।
2. ডামি সাবস্ট্রেট
ডামি-গ্রেড ইনগটটি পরীক্ষা, ক্রমাঙ্কন এবং প্রোটোটাইপিং অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এটি একটি সাশ্রয়ী বিকল্প যার মধ্যে রয়েছে:
রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) বা ভৌত বাষ্প জমা (PVD) তে প্রক্রিয়া প্যারামিটার ক্রমাঙ্কন।
উৎপাদন পরিবেশে এচিং এবং পলিশিং প্রক্রিয়া মূল্যায়ন করা।
৩. পাওয়ার ইলেকট্রনিক্স
এর প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ এবং উচ্চ তাপ পরিবাহিতার কারণে, 4H-SiC পাওয়ার ইলেকট্রনিক্সের জন্য একটি ভিত্তিপ্রস্তর, যেমন:
উচ্চ-ভোল্টেজ MOSFET।
স্কটকি ব্যারিয়ার ডায়োড (SBDs)।
জংশন ফিল্ড-ইফেক্ট ট্রানজিস্টর (JFETs)।
অ্যাপ্লিকেশনগুলির মধ্যে রয়েছে বৈদ্যুতিক যানবাহন ইনভার্টার, সৌর ইনভার্টার এবং স্মার্ট গ্রিড।
৪. উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি ডিভাইস
উপাদানটির উচ্চ ইলেকট্রন গতিশীলতা এবং কম ক্যাপাসিট্যান্স ক্ষতি এটিকে নিম্নলিখিতগুলির জন্য উপযুক্ত করে তোলে:
রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি (RF) ট্রানজিস্টর।
5G অবকাঠামো সহ ওয়্যারলেস যোগাযোগ ব্যবস্থা।
রাডার সিস্টেমের প্রয়োজন এমন মহাকাশ এবং প্রতিরক্ষা অ্যাপ্লিকেশন।
৫. বিকিরণ-প্রতিরোধী সিস্টেম
4H-SiC এর বিকিরণ ক্ষতির সহজাত প্রতিরোধ ক্ষমতা এটিকে কঠোর পরিবেশে অপরিহার্য করে তোলে যেমন:
মহাকাশ অনুসন্ধানের হার্ডওয়্যার।
পারমাণবিক বিদ্যুৎ কেন্দ্র পর্যবেক্ষণ সরঞ্জাম।
সামরিক-গ্রেড ইলেকট্রনিক্স।
৬. উদীয়মান প্রযুক্তি
SiC প্রযুক্তির অগ্রগতির সাথে সাথে, এর প্রয়োগগুলি ক্ষেত্রগুলিতে বৃদ্ধি পেতে থাকে যেমন:
ফোটোনিক্স এবং কোয়ান্টাম কম্পিউটিং গবেষণা।
উচ্চ-ক্ষমতাসম্পন্ন LED এবং UV সেন্সরের উন্নয়ন।
ওয়াইড-ব্যান্ডগ্যাপ সেমিকন্ডাক্টর হেটেরোস্ট্রাকচারে ইন্টিগ্রেশন।
4H-SiC ইনগটের সুবিধা
উচ্চ বিশুদ্ধতা: অমেধ্য এবং ত্রুটির ঘনত্ব কমাতে কঠোর অবস্থার অধীনে তৈরি।
স্কেলেবিলিটি: শিল্প-মান এবং গবেষণা-স্কেলের চাহিদা পূরণের জন্য 4-ইঞ্চি এবং 6-ইঞ্চি উভয় ব্যাসেই উপলব্ধ।
বহুমুখিতা: নির্দিষ্ট প্রয়োগের প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য বিভিন্ন ধরণের ডোপিং এবং ওরিয়েন্টেশনের সাথে খাপ খাইয়ে নেওয়া যায়।
শক্তিশালী কর্মক্ষমতা: চরম অপারেটিং পরিস্থিতিতে উচ্চতর তাপীয় এবং যান্ত্রিক স্থিতিশীলতা।
উপসংহার
4H-SiC ইনগট, এর ব্যতিক্রমী বৈশিষ্ট্য এবং বিস্তৃত প্রয়োগের সাথে, পরবর্তী প্রজন্মের ইলেকট্রনিক্স এবং অপটোইলেকট্রনিক্সের জন্য উপকরণ উদ্ভাবনের ক্ষেত্রে অগ্রণী ভূমিকা পালন করে। একাডেমিক গবেষণা, শিল্প প্রোটোটাইপিং, অথবা উন্নত ডিভাইস তৈরির জন্য ব্যবহৃত হোক না কেন, এই ইনগটগুলি প্রযুক্তির সীমানা অতিক্রম করার জন্য একটি নির্ভরযোগ্য প্ল্যাটফর্ম প্রদান করে। কাস্টমাইজযোগ্য মাত্রা, ডোপিং এবং ওরিয়েন্টেশন সহ, 4H-SiC ইনগটটি সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের ক্রমবর্ধমান চাহিদা পূরণের জন্য তৈরি করা হয়েছে।
আপনি যদি আরও জানতে বা অর্ডার দিতে আগ্রহী হন, তাহলে বিস্তারিত স্পেসিফিকেশন এবং প্রযুক্তিগত পরামর্শের জন্য আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে দ্বিধা করবেন না।
বিস্তারিত চিত্র



