সিলিকন এপি-লেয়ার ওয়েফার গ্যালিয়াম নাইট্রাইড এপিটাক্সিয়াল ওয়েফারে 150 মিমি 200 মিমি 6 ইঞ্চি 8 ইঞ্চি GaN
উত্পাদন পদ্ধতি
মেটাল-অর্গানিক রাসায়নিক বাষ্প জমা (MOCVD) বা আণবিক বিম এপিটাক্সি (MBE) এর মতো উন্নত কৌশলগুলি ব্যবহার করে একটি নীলকান্তমণি স্তরে ক্রমবর্ধমান GaN স্তরগুলিকে উত্পাদন প্রক্রিয়া জড়িত করে। উচ্চ স্ফটিক গুণমান এবং অভিন্ন ফিল্ম নিশ্চিত করার জন্য নিয়ন্ত্রিত অবস্থার অধীনে জমা প্রক্রিয়া সম্পন্ন করা হয়।
6 ইঞ্চি গ্যান-অন-স্যাফায়ার অ্যাপ্লিকেশন: 6-ইঞ্চি স্যাফায়ার সাবস্ট্রেট চিপগুলি মাইক্রোওয়েভ যোগাযোগ, রাডার সিস্টেম, ওয়্যারলেস প্রযুক্তি এবং অপটোইলেক্ট্রনিক্সে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।
কিছু সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন অন্তর্ভুক্ত
1. আরএফ শক্তি পরিবর্ধক
2. LED আলো শিল্প
3. বেতার নেটওয়ার্ক যোগাযোগ সরঞ্জাম
4. উচ্চ তাপমাত্রা পরিবেশে ইলেকট্রনিক ডিভাইস
5. অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস
পণ্যের স্পেসিফিকেশন
- আকার: সাবস্ট্রেটের ব্যাস 6 ইঞ্চি (প্রায় 150 মিমি)।
- পৃষ্ঠের গুণমান: চমৎকার আয়না গুণমান প্রদানের জন্য পৃষ্ঠটি সূক্ষ্মভাবে পালিশ করা হয়েছে।
- বেধ: GaN স্তরের বেধ নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী কাস্টমাইজ করা যেতে পারে।
- প্যাকেজিং: পরিবহনের সময় ক্ষতি রোধ করতে সাবস্ট্রেটটি অ্যান্টি-স্ট্যাটিক উপকরণ দিয়ে সাবধানে প্যাক করা হয়।
- পজিশনিং এজ: সাবস্ট্রেটের নির্দিষ্ট পজিশনিং এজ রয়েছে যা ডিভাইস তৈরির সময় সারিবদ্ধকরণ এবং অপারেশনকে সহজতর করে।
- অন্যান্য পরামিতি: নির্দিষ্ট পরামিতি যেমন পাতলা, প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং ডোপিং ঘনত্ব গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী সামঞ্জস্য করা যেতে পারে।
তাদের উচ্চতর উপাদান বৈশিষ্ট্য এবং বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশন সহ, 6-ইঞ্চি নীলকান্তমণি সাবস্ট্রেট ওয়েফারগুলি বিভিন্ন শিল্পে উচ্চ-কর্মক্ষমতা সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির বিকাশের জন্য একটি নির্ভরযোগ্য পছন্দ।
সাবস্ট্রেট | 6” 1mm <111> p-টাইপ Si | 6” 1mm <111> p-টাইপ Si |
Epi ThickAvg | ~5um | ~7um |
Epi ThickUnif | <2% | <2% |
নম | +/-45um | +/-45um |
ক্র্যাকিং | <5 মিমি | <5 মিমি |
উল্লম্ব বিভি | >1000V | >1400V |
HEMT Al% | 25-35% | 25-35% |
HEMT পুরুএ্যাভিজি | 20-30nm | 20-30nm |
ইনসিটু সিএন ক্যাপ | 5-60nm | 5-60nm |
2DEG conc. | ~1013cm-2 | ~1013cm-2 |
গতিশীলতা | ~2000 সেমি2/বনাম (<2%) | ~2000 সেমি2/বনাম (<2%) |
Rsh | <330ohm/sq (<2%) | <330ohm/sq (<2%) |