সিলিকন ডাই অক্সাইড ওয়েফার SiO2 ওয়েফার পুরু পালিশ, প্রাইম এবং টেস্ট গ্রেড

সিলিকন অক্সাইড ওয়েফারগুলি হল সিলিকন ডাই অক্সাইড ফিল্ম যা সিলিকন ওয়েফারের পৃষ্ঠে অক্সিজেন বা জলীয় বাষ্পের মাধ্যমে উচ্চ তাপমাত্রায় (800°C~1150°C) বায়ুমণ্ডলীয় চাপ চুল্লি টিউব সরঞ্জামের সাথে তাপীয় জারণ প্রক্রিয়া ব্যবহার করে জন্মায়।প্রক্রিয়াটির পুরুত্ব 50 ন্যানোমিটার থেকে 2 মাইক্রন পর্যন্ত, প্রক্রিয়া তাপমাত্রা 1100 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত, বৃদ্ধির পদ্ধতিটি "ভিজা অক্সিজেন" এবং "শুকনো অক্সিজেন" দুই ধরণের মধ্যে বিভক্ত।থার্মাল অক্সাইড হল একটি "বড়ো" অক্সাইড স্তর, যার উচ্চতর অভিন্নতা, ভাল ঘনত্ব এবং উচ্চতর ডাইলেক্ট্রিক শক্তি সিভিডি জমা অক্সাইড স্তরগুলির তুলনায় উচ্চতর গুণমান।

শুকনো অক্সিজেন জারণ

সিলিকন অক্সিজেনের সাথে বিক্রিয়া করে এবং অক্সাইড স্তরটি ক্রমাগত সাবস্ট্রেট স্তরের দিকে অগ্রসর হয়।শুষ্ক অক্সিডেশন 850 থেকে 1200°C তাপমাত্রায় সঞ্চালিত করা প্রয়োজন, কম বৃদ্ধির হার সহ, এবং MOS ইনসুলেটেড গেট বৃদ্ধির জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে।একটি উচ্চ মানের, অতি-পাতলা সিলিকন অক্সাইড স্তর প্রয়োজন হলে শুষ্ক অক্সিডেশন ভেজা অক্সিডেশনের চেয়ে পছন্দ করা হয়।শুষ্ক অক্সিডেশন ক্ষমতা: 15nm ~ 300nm।

2. ভেজা জারণ

এই পদ্ধতিটি উচ্চ তাপমাত্রার পরিস্থিতিতে ফার্নেস টিউবে প্রবেশ করে একটি অক্সাইড স্তর তৈরি করতে জলীয় বাষ্প ব্যবহার করে।ভেজা অক্সিজেন অক্সিডেশনের ঘনত্ব শুষ্ক অক্সিজেন অক্সিডেশনের চেয়ে সামান্য খারাপ, তবে শুষ্ক অক্সিজেন জারণের তুলনায় এর সুবিধা হল এটির বৃদ্ধির হার বেশি, 500nm ফিল্ম বৃদ্ধির জন্য উপযুক্ত।ভেজা অক্সিডেশন ক্ষমতা: 500nm~2µm।

AEMD এর বায়ুমণ্ডলীয় চাপ অক্সিডেশন ফার্নেস টিউব হল একটি চেক অনুভূমিক চুল্লি টিউব, যা উচ্চ প্রক্রিয়ার স্থিতিশীলতা, ভাল ফিল্ম অভিন্নতা এবং উচ্চতর কণা নিয়ন্ত্রণ দ্বারা চিহ্নিত করা হয়।সিলিকন অক্সাইড ফার্নেস টিউবটি প্রতি টিউবে 50টি ওয়েফার পর্যন্ত প্রক্রিয়া করতে পারে, চমৎকার ইন্ট্রা- এবং ইন্টার-ওয়েফারের অভিন্নতা সহ।